产品介绍：

名    称：匀胶显影机

型    号：SC100-DE

原产地：

应    用：SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。

产品概述：

SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。
　　不锈钢外壳比塑料或者烤漆金属更耐久和美观；工业级别200瓦伺服电机系统，采用与track设备相同设计和程序，使您的工艺更具有实际应用意义；同类产品中领先的最大达到50000RPM/S的旋转加速度，确保匀胶和显影的稳定性和极高的可重复性。

性能参数：

l 主机机箱采用不锈钢材料（抗化学腐蚀易清洁）

l 旋涂程序：最多可存100组程序，每组100步，每个步骤可精确到0.1秒

l 转动速度：0-10,000rpm（更高速可选）

l 旋涂加速度：0-50,000rpm/sec（空载）

l 马达旋涂转速稳定性能误差 < ±1rpm

l 转速调节精度<1rpm，重复性< 1rpm

l 工艺时间设定： 0-3,000 sec/step，时间设置精度：0.1sec

l 支持wafer尺寸1cm-200mm（8“圆晶）

l 标准配置两路喷液系统（显影液和去离子水）

产品特点：

l  主机在SC100-SE匀胶机上升级，增加耐腐蚀高分子材料防溅式罩盖

l  全程序编辑功能，更方便的智能化操作，更好的显影/清洗效果

l  可实现最多独立四路喷液用于显影/清洗工作，或进行氮气吹干

l  控制器可实现程序自动控制喷液或进行手动操作，使用更加方便

l  显影系统可进行喷雾式、柱流式多种选择，视要求进行配置

l  提供客户定制化的显影系统配置和工装设计

l  高可靠性和重复性，高转速精度和更高转速可选

l  可添加去边胶和背胶清洗功能

产品外型尺寸：

      433mm(D) * 306mm(W) * 306mm(H) – 标准设备结构

咨询或索取详细产品资料，请联系ANALYSIS（安赛斯）工作人员。