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 SC100-DE匀胶显影机 当前位置:首页>产品展示  
 


产品介绍:


    称:匀胶显影机

    号:SC100-DE

原产地:

    用:SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作,又可用于半导体显影和清洗的台面式设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。

 

产品概述:


SC100-DE匀胶显影机是一种既可用于精密匀胶操作,又可用于半导体显影和清洗的台面式设备,它可以实现价值百万美元设备(track)的上才可能达到稳定性和均匀性。
  不锈钢外壳比塑料或者烤漆金属更耐久和美观;工业级别200瓦伺服电机系统,采用与track设备相同设计和程序,使您的工艺更具有实际应用意义;同类产品中领先的最大达到50000RPM/S的旋转加速度,确保匀胶和显影的稳定性和极高的可重复性。

 

性能参数:


l 主机机箱采用不锈钢材料(抗化学腐蚀易清洁)

l 旋涂程序:最多可存100组程序,每组100步,每个步骤可精确到0.1

l 转动速度:0-10,000rpm(更高速可选)

l 旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空载)

l 马达旋涂转速稳定性能误差 < ±1rpm

l 转速调节精度<1rpm,重复性< 1rpm

l 工艺时间设定: 0-3,000 sec/step,时间设置精度:0.1sec

l 支持wafer尺寸1cm-200mm8“圆晶)

l 标准配置两路喷液系统(显影液和去离子水)

 

产品特点:


l  主机在SC100-SE匀胶机上升级,增加耐腐蚀高分子材料防溅式罩盖

l  全程序编辑功能,更方便的智能化操作,更好的显影/清洗效果

l  可实现最多独立四路喷液用于显影/清洗工作,或进行氮气吹干

l  控制器可实现程序自动控制喷液或进行手动操作,使用更加方便

l  显影系统可进行喷雾式、柱流式多种选择,视要求进行配置

l  提供客户定制化的显影系统配置和工装设计

l  高可靠性和重复性,高转速精度和更高转速可选

l  可添加去边胶和背胶清洗功能

 

 

产品外型尺寸:

      433mm(D) * 306mm(W) * 306mm(H) – 标准设备结构

 

 

 

咨询或索取详细产品资料,请联系ANALYSIS(安赛斯)工作人员。

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